高盛：日本电子/半导体：光掩模日本2026：实际应用/商业化的准备

原标题：Japan Electronics/Semiconductors: Photomask Japan 2026: Preparations for practical application/commercialization of

摘要

高盛参加了2026年4月8-10日举行的Photomask Japan 2026会议，听取了55场关于光掩模研究的演讲。关键要点包括：大日本印刷（DNP）在纳米压印光刻（NIL）方面宣布已成功使用10nm电路线宽的模板制造，这与该公司去年12月的最新更新一致。高盛假设，通过结合SADP（自对准双重图案化）技术来弥补NIL的挑战，NIL可能成为在不使用EUV的情况下扩展到特定工艺节点的手段。此外，多个关于曲线掩模（Curvilinear）的研究报告表明，其实际应用和商业化的准备正在稳步推进。高盛对DNP给予中性评级，目标价2,900日元。

主要观点

• DNP在NIL方面宣布已成功使用10nm电路线宽的模板制造，与去年12月的公告一致。
• NIL是一种通过将带有电路图案的模板压印到树脂上形成纳米级电路的技术，有望实现小型化和节能。
• DNP计划在FY3/28开始NIL业务的量产，并在FY3/31设定该业务销售额目标为40亿日元。
• DNP的研究报告提到，通过结合SADP技术，可以弥补NIL在均匀性、缺陷和可量产性方面的挑战。
• 高盛假设，如果技术开发顺利，NIL可能成为在不使用EUV的情况下扩展到特定工艺节点的手段。
• 曲线掩模是一种使用曲线、对角线和自由形状的光掩模设计方法，旨在解决EUV世代中的光衍射和模糊问题。
• 在PMJ演讲中，多次确认曲线掩模相比旧技术的高性能已在各种测试中得到证明。
• 曲线掩模的0.33NA EUV演示版已完成，但在检测过程和良率方面仍存在挑战。
• 高盛认为，曲线掩模的实际应用和商业化准备正在稳步推进。
• DNP的中期计划（FY3/24-FY3/26）选择了增长业务和需要审查的业务，并设定了交叉持股出售和股东回报目标。
• 高盛认为DNP的半导体光掩模和电池袋业务等增长潜力已充分反映在当前股价中，因此给予中性评级。
• DNP的目标价基于SOTP方法，各板块EV/EBITDA倍数：智能通信6.4倍，生活与健康11.2倍，电子8.0倍，并应用15%的集团折扣，得出12个月目标价2,900日元。

论述逻辑

高盛参加PMJ会议，观察到NIL和曲线掩模技术的进展。DNP在NIL上成功实现10nm线宽，结合SADP技术可能替代EUV用于特定节点。曲线掩模在多个演讲中展示高性能，但检测和良率仍需改进。基于这些技术进展，高盛评估DNP的成长潜力，但认为当前股价已充分反映，因此维持中性评级。

关键展望

报告未明确给出未来验证点或时间窗口，但指出NIL量产计划在FY3/28开始，曲线掩模的实际应用和商业化准备正在推进。风险包括客户技术路线图变化、生产问题、关键材料采购困难、竞争加剧、日元升值和原材料成本飙升。

推荐标的

• 大日本印刷（DNP，7912.T）：评级中性，12个月目标价2,900日元。理由：成长潜力已充分反映在股价中。

关键图表

报告未提供可裁切的关键图表。