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摩根士丹利 高 NA 光刻规模化落地与大掩膜转型进程提速260909

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摘要

摩根士丹利发布日本半导体生产设备行业更新(2026年9月9日),维持行业观点“具吸引力(Attractive)”。 三星宣布扩大与ASML的合作,明确计划到2028年将High-NA EUV引入DRAM量产,并称这将是业界首次把HNA EUV用于DRAM批量生产;台积电宣布计划于2030年在量产中采用HNA EUV,此前其曾表示在2029年前的A13/A12世代暂缓导入,最新表态令导入时点更加清晰。 大掩膜转型同步提速:ASML与台积电宣布启动6x12英寸大掩膜联合计划,三星确认参与,目标2031年建立中试线、2033年具备量产条件;尽管大掩膜最初由英特尔牵头,三家尖端逻辑/代工大厂已开始在这一转型上趋于一致。 摩根士丹利认为HNA导入是掩膜相关设备的顺风,预计检测端转向Lasertec的A300、掩膜写入端转向IMS/JEOL的MBMW-401等HNA兼容设备;大掩膜需要新的掩膜制造基础设施,将为更广泛的掩膜设备领域提供额外顺风。 鉴于落地时间较远、且团队假设相关进展此前已与设备供应商讨论过,报告认为这些公告不会影响Lasertec本财年的订单指引。

主要观点

  • 三星宣布扩大与ASML的合作,明确计划到2028年将High-NA EUV引入DRAM量产,并预计这将标志业界首次将HNA EUV用于DRAM批量生产
  • 台积电宣布计划于2030年在量产中采用HNA EUV;此前其曾表示在2029年前的A13/A12世代暂缓导入,最新公告使HNA导入时点更加清晰
  • ASML与台积电宣布启动引入6x12英寸大掩膜的联合计划,三星确认参与
  • 大掩膜计划目标2031年建立中试线、2033年具备量产条件;尽管英特尔最早牵头推动大掩膜,三大尖端逻辑/代工厂商已开始在这一转型上趋于一致
  • 摩根士丹利视HNA导入为掩膜相关设备的顺风:预计检测端将转向Lasertec的A300、掩膜写入端将转向IMS/JEOL的MBMW-401等HNA兼容设备
  • 大掩膜导入需要新的掩膜制造基础设施,将为更广泛的掩膜设备领域提供额外顺风
  • 鉴于落地时间较远、且团队假设相关进展此前已与设备供应商讨论过,报告不认为这些公告会影响Lasertec本财年的订单指引
  • 报告维持日本半导体生产设备行业观点为Attractive(具吸引力)
  • ASML由Lee Simpson覆盖,三星电子由Shawn Kim覆盖,台积电由Charlie Chan覆盖,英特尔由Joseph Moore覆盖;本报告分析师为Suzune Tamura与Kazuo Yoshikawa

论述逻辑

  • 三星2028年DRAM量产导入HNA EUV + 台积电2030年量产采用 → HNA从评估阶段走向量产采用
  • HNA量产采用要求检测与掩膜写入设备具备HNA兼容能力 → 预期转向Lasertec A300(检测)与IMS/JEOL MBMW-401(掩膜写入)→ 掩膜相关设备迎来顺风
  • ASML与台积电联合推进6x12英寸大掩膜 + 三星确认参与 → 三大尖端逻辑/代工厂商在转型上趋于一致 → 需要新的掩膜制造基础设施 → 更广泛掩膜设备领域获得额外顺风
  • 落地时间较远(2031年中试线、2033年量产就绪)且假设已与设备商提前讨论 → 不影响Lasertec本财年订单指引 → 行业观点维持Attractive

关键展望

  • 到2028年:三星计划将HNA EUV引入DRAM量产,预计为业界首次用于DRAM批量生产
  • 2030年:台积电计划在量产中采用HNA EUV
  • 2031年:大掩膜计划目标建立中试线;2033年:具备量产条件
  • Lasertec本财年订单指引不受这些公告影响
  • 未来12-18个月日本半导体生产设备行业覆盖组合表现预计优于相关大盘基准(行业观点Attractive)

推荐标的

  • 行业观点:日本半导体生产设备 Attractive(具吸引力)
  • Advantest(6857.T):评级O(2024/01/17起),股价¥33,800(2026/09/08)
  • DISCO(6146.T):评级O(2023/07/07起),股价¥53,890(2026/09/08)
  • Ebara(6361.T):评级O(2024/12/04起),股价¥4,397(2026/09/08)
  • JEOL(6951.T):评级E(2025/07/08起),股价¥6,829(2026/09/08);报告提到掩膜写入端HNA兼容设备MBMW-401来自IMS/JEOL
  • KOKUSAI ELECTRIC(6525.T):评级O(2025/12/19起),股价¥8,782(2026/09/08)
  • Lasertec(6920.T):评级U(2025/07/28起),股价¥34,910(2026/09/08);报告指出其A300为HNA兼容检测设备,且公告不影响其本财年订单指引
  • Nikon(7731.T):评级U(2023/08/08起),股价¥1,816(2026/09/08)
  • SCREEN Holdings(7735.T):评级O(2025/11/13起),股价¥13,270(2026/09/08)
  • Tekscend Photomask(429A.T):评级E(2025/11/18起),股价¥3,755(2026/09/08)
  • Tokyo Electron(8035.T):评级O(2025/12/19起),股价¥54,000(2026/09/08)
  • Ulvac(6728.T):评级E(2024/01/17起),股价¥7,030(2026/09/08)
  • Ushio(6925.T):评级O(2026/01/05起),股价¥3,623(2026/09/08)
  • 事件相关公司中,ASML由Lee Simpson、三星电子由Shawn Kim、台积电由Charlie Chan、英特尔由Joseph Moore覆盖,本报告未对上述公司给出评级或目标价

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