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高盛 屹唐股份(688729.SH):刻蚀、表面处理设备为下一阶段增长引擎

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摘要

高盛维持对屹唐股份(688729.SS)的中性评级,理由是估值已趋合理。 报告继续看好公司受益于中国存储与先进制程产能扩张以及半导体设备国产化,干法去胶(dry strip)与快速热处理(RTP)领域的领先地位支撑核心业务。 刻蚀机与等离子体表面处理设备被定位为下一阶段增长引擎,其中 RENA-E 预计 2027E-28E 放量,同时新型金属/铝刻蚀与晶圆边缘刻蚀设备正在客户验证。 盈利预测方面,2027-28E 净利润基本不变、收入平均小幅下调 1%;2026E 净利润下调 9% 至 1,080 百万元(原 1,190 百万元),主因收入下降与研发费用上升,反映原材料供应紧张和新产品开发投入。 高盛仍预计 2027/28E 收入同比增长 55%/16%,动力来自强劲的中国半导体资本开支(China Semis Capex)与公司新品放量。 供应链本土化与验证进展预计持续支撑盈利能力改善。 披露页显示公司股价为 Rmb21.95,目标价历史最近一次为 10-Jul-26 的 32.90 元(当日收盘 36.58 元)。

主要观点

  • 维持中性评级:高盛认为屹唐估值已趋合理,投资评级为 Neutral(中性)。
  • 核心逻辑:中国存储与先进制程产能扩张叠加半导体设备国产化,是公司成长的主要支撑。
  • 干法去胶(dry strip)与快速热处理(RTP)的领先地位支撑核心业务;刻蚀机与等离子体表面处理设备被定位为下一阶段增长引擎。
  • RENA-E 预计 2027E-28E 放量,同步推进新型金属/铝刻蚀与晶圆边缘刻蚀设备的客户验证。
  • 高盛预计 2027/28E 收入同比增长 55%/16%,动力来自强劲的中国半导体资本开支与公司新品放量。
  • 2026E 净利润下调 9%,主因收入下降与研发费用上升,反映原材料供应紧张和新产品开发。
  • 分年调整幅度:2026E 收入 5,720→5,582 百万元(-2%)、2027E 8,716→8,662 百万元(-1%)、2028E 10,135→10,082 百万元(-1%);净利润 2027E 1,928→1,924 百万元(0%)、2028E 2,194→2,177 百万元(-1%);2026E 经营利润 1,078→963 百万元(-11%)。
  • 利润率变化:2026E GM 40.2%(原 40.1%)、OPM 17.3%(原 18.9%)、NM 19.3%(原 20.8%);2027E GM 40.0%、OPM 23.5%、NM 22.2%;2028E GM 40.4%、OPM 23.2%、NM 21.6%。
  • 供应链持续本土化与验证(qualification)进展预计支撑公司盈利能力改善。
  • 披露页显示公司当前股价为 Rmb21.95,且无公司特定利益冲突披露;高盛全球覆盖评级分布为 Buy 50%、Hold 34%、Sell 16%(截至 2026 年 7 月 1 日覆盖 3,104 只证券)。
  • 目标价历史:最近一次为 10-Jul-26 的 32.90 元(当日收盘 36.58 元),此前 25-Mar-26 为 28.90 元(收盘 22.38 元)、29-Aug-25 为 33.50 元(收盘 31.35 元)。

论述逻辑

  • 中国存储及先进制程产能扩张 + 半导体设备国产化 → 屹唐凭借干法去胶与 RTP 领先地位稳住核心业务,收入高增(2027/28E 同比 +55%/16%)→ 刻蚀机与等离子体表面处理设备(RENA-E 2027E-28E 放量、金属/铝刻蚀与晶圆边缘刻蚀客户验证)接棒成为下一阶段增长引擎 → 供应链本土化与验证推进支撑盈利能力改善 → 但 2026E 收入下调、研发费用上升(原材料供应紧张、新品开发)令净利润下调 9%、经营利润下调 11% → 估值已趋合理 → 维持中性评级。

关键展望

  • 未来验证点:RENA-E 预计 2027E-28E 放量,新型金属/铝刻蚀与晶圆边缘刻蚀设备的客户验证进展。
  • 增长路径:2027/28E 收入同比增长 55%/16%,驱动因素为中国半导体资本开支与新品放量。
  • 盈利预测窗口:2027-28E 净利润基本不变、收入平均小幅下调 1%;2026E 净利润下调 9%。
  • 评级与目标价:维持中性(Neutral),理由为估值合理;本次报告文本未列示新的目标价数字,披露页显示股价 Rmb21.95,目标价历史最近一次为 10-Jul-26 的 32.90 元(当日收盘 36.58 元)。

推荐标的

  • 屹唐股份(E-Town Semis,688729.SS):维持中性(Neutral)评级,理由是估值已趋合理;增长看点为刻蚀与等离子体表面处理设备(RENA-E 2027E-28E 放量、金属/铝刻蚀与晶圆边缘刻蚀设备客户验证)驱动下一阶段增长。
  • 价格参考:披露页显示当前股价 Rmb21.95;报告文本未给出本次新目标价,历史目标价最近为 32.90 元(10-Jul-26,当日收盘 36.58 元)。

关键图表

图1. 盈利预测调整

**图1. 盈利预测调整**

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