瑞银:亚太聚焦:铜箔——从电池之痛到AI之利
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摘要
瑞银认为市场正错误定价铜箔行业的结构性转变。AI基础设施支出加速推动高端HVLP PCB箔需求趋紧,而海外供应商产能扩张保守。同时,电池箔产能正向更高利润的PCB应用迁移,储能需求增长强劲。瑞银首次覆盖国内HVLP龙头Defu(买入),并将Nuode评级从卖出上调至中性,基于电池箔业务好转。预计2026-27年HVLP需求CAGR约60%,HVLP箔供应缺口10-15%,HVLP4缺口35-40%。电池箔利用率将从2025年的约80%升至2027年的90%以上。
主要观点
- AI驱动的HVLP需求加速:预计2026-27年HVLP需求CAGR约60%,基于AI数据中心资本支出增长和内容价值提升(更高PCB层数和Kyber中板设计增量需求)。
- HVLP市场由Mitsui Kinzoku主导(约40%份额),但其产能扩张保守(至2028年CAGR 20%)。
- 中国供应商正快速缩小技术差距,并日益渗透AI供应链。
- 预计2026-27年HVLP箔供应缺口10-15%,HVLP4缺口35-40%,支撑持续涨价和国内合格生产商市场份额提升。
- 电池箔利润触底:预计2026/27年需求增长28%/24%,供应增长9%/20%,推动利用率从2025年约80%升至2027年90%以上。
- 电池箔复苏驱动因素:1)2022-24年下行后新增产能有限;2)现有产线向PCB箔转换;3)全球储能系统安装加速。
- 偏好Defu(买入),因其产品组合强劲,HVLP和高端电池箔敞口高。
- 将Nuode评级从卖出上调至中性,因电池箔基本面改善可能提升行业盈利。
- 超大规模云服务商2026/27年资本支出预计达8270亿/9150亿美元(同比+61%/+11%)。
- 瑞银硬件技术团队预计2025年Nvidia NVL72机架出货28-29k台,2026年50-60k台。
- PCB材料含量增长可能超过单位增长,因AI平台升级需要更高级CCL材料和更高层数。
论述逻辑
AI基础设施资本支出加速 → 超大规模云服务商资本支出持续上调 → Nvidia机架出货量翻倍以上 → 高端HVLP铜箔需求以60% CAGR增长 → 海外供应商(Mitsui)产能扩张保守(20% CAGR) → 供应缺口10-15%(HVLP)和35-40%(HVLP4) → 国内供应商技术追赶并进入AI供应链 → 电池箔方面:2022-24年下行后新增产能有限 + 产线转向PCB + 储能需求加速 → 利用率从80%升至90%以上 → 加工费回升 → 盈利复苏。
关键展望
- 2026-27年HVLP需求CAGR约60%,供应缺口持续,支持涨价。
- 电池箔利用率2027年超过90%,ROE有望回到中个位数。
- 超大规模云服务商资本支出2026/27年增长61%/11%。
- Nvidia机架出货2026年50-60k台,Vera Rubin机架于2026年Q3开始出货。
- 报告未明确其他未来验证点或风险。
推荐标的
- Defu (301511.SZ):首次覆盖,买入评级,目标价54.0元,较现价39.50元有37%上行空间。理由:产品组合强劲,HVLP和高端电池箔敞口高。
- Nuode (600110.SS):评级从卖出上调至中性,目标价10.00元(原3.90元),较现价9.63元有4%上行空间。理由:电池箔基本面改善可能提升行业盈利。
关键图表
报告未提供可裁切的关键图表。